Produkcja masek fotolitograficznych

Oferujemy możliwość wytwarzania masek fotolitograficznych metodą elektronolitografii na własnych lub dostarczonych podłożach.

Parametry maski:

rozmiar podłoża: maski 125 mm/5” lub 180 mm/7”,
rodzaj podłoża: szklane lub kwarcowe,
rozdzielczość wykonanego wzoru poniżej 300 nm (do ustalenia w zależności od wzoru),
grubość warstwy chromu 100 nm.

Istnieje możliwość dobrania innej grubości warstwy chromu (z warstwą antyodbiciową lub bez), innego materiału podłoża oraz uzyskania większej rozdzielczości.

Słowa kluczowe: fotolitografia, elektronolitografia, maski fotolitograficzne, podłoża szklane, podłoża kwarcowe

kontakt: uslugi.cezamat@pw.edu.pl