Elektronolitografia

Elektronolitografia, czyli litografia wiązką elektronową pozwala na bezpośrednie pisanie wzorów na warstwie rezystu, co umożliwia uzyskanie wymiarów elementów na poziomie pojedynczych nanometrów. Pozwala to na dużo większą swobodę przenoszenia wzorów na warstwę w porównaniu do innych rodzajów litografii. Takie rozwiązanie eliminuje konieczność wytworzenia i naświetlania wzorów przez maskę stosowaną np. w procesie fotolitografii. Dzięki temu możliwe są szybkie zmiany i korekty w projekcie wzorów. Zalety te nadają litografii wiązką elektronową dużą elastyczność przydatną zwłaszcza w fazie badań i prototypowania struktur i elementów. Stosowane napięcia przyspieszające to 100 kV. Minimalna średnica wiązki elektronów stosowana do naświetlania nie przekracza 5 nm, a minimalna szerokość uzyskanej linii jest poniżej 20 nm. Maksymalny obszar naświetlania bez konieczności stosowania zszywania (Stitching) to 1 mm2.

Możliwość technologiczne:

• napięcie przyspieszające 100 kV, zakres prądu wiązki naświetlającej 0,1-50 nA, wielkość pola naświetlania 100 x 100 μm, 500 x 500 μm i 1 000 x 1 000 μm,
• błąd zszywania pól naświetlania (Stitching) ≤±30 nm,
• możliwość pracy z okrągłymi podłożami o średnicach 50 mm/2”, 75 mm/3”, 100 mm/4”, 150 mm/6”, 200 mm/8” i kwadratowymi o długości boku 125 mm/5” i 180 mm/7”,
• istnieje możliwość procesowania niestandardowych podłóż po wcześniejszym uzgodnieniu,
• możliwość pracy z rezystami pozytywowymi (np. 950PMMA A firmy MicroChem i ZEP520A firmy Zeon) oraz negatywowym (np. XR-1541 firmy Dow Corning) – możliwe inne po wcześniejszym uzgodnieniu,
• możliwość wytworzenia warstwy rezystu od kilkudziesięciu nanometrów wzwyż,
• minimalna szerokość linii możliwa do uzyskania w rezyście negatywowym od kilkunastu nm, natomiast w rezyście pozytywowym od kilkudziesięciu nm;
• akceptowane wzory w plikach: LEDB, GDS OASIS, LTxt, CIF, DXF, PNG,
• możliwość przygotowania i optymalizacji procesu naświetlania – dostępne oprogramowanie umożliwia m.in.: optymalny dobór i kolejność naświetlania obszarów pod kątem minimalizacji błędów odwzorowania i skrócenia czasu pracy, przygotowanie planu dawkowania wiązki z uwzględnieniem efektów sąsiedztwa oraz wizualizację efektów naświetlania.

Słowa kluczowe: elektronolitografia, litografia, wiązka elektronowa, wiązka naświetlająca, proces naświetlania

kontakt: uslugi.cezamat@pw.edu.pl