Biografia
Absolwent Wydziału Mechatroniki Politechniki Warszawskiej (2016). Związany z projektem CEZAMAT od 2014 roku. W 2014 odbył ośmiomiesięczny staż w ośrodku badawczym IMEC w Belgii, gdzie zajmował się optymalizacją procesów trawienia mokrego i czyszczenia powierzchni w procesach wytwarzania układów CMOS i detektorów do obrazowania hiperspektralnego. Jego zainteresowania badawcze obejmują wytwarzanie precyzyjnych elementów modyfikujących amplitudę i fazę światła za pomocą procesów typowych dla linii CMOS.
Obszar badań
- elementy dyfrakcyjne, mikrosoczewki, holografia
- charakteryzacja mikrostruktur
- mikroskopia elektronowa, mikroskopia optyczna
Wybrane publikacje
- Kaźmierczak, A., Słowikowski, M., Pavłov, K., Filipiak, M., Vervaeke, M., Tyszkiewicz, C., Ottevaere, H., Piramidowicz, R., Karasiński, P., “Efficient, low-cost optical coupling mechanism for TiO2-SiO2sol-gel derived slab waveguide surface grating coupler sensors”, (2021) 50 (4), pp. 539-549. DOI: 10.37190/OA200403
- Kaźmierczak, A., Słowikowski, M., Pavłov, K., Filipiak, M., Piramidowicz, R., “Polymer micro-lenses as a long-coupling-distance interfacing layer in the low-cost optical coupling solution between optical fibers and photonic integrated waveguide circuits”, (2019) 11 (4), pp. 121-123. DOI: 10.4302/plp.v11i4.964
- Stonio, B., Kwietniewski, N., Firek, P., Słowikowski, M., Pavłov, K., Sochacki, M., Szmidt, J., “Influence of masking materials on the quality of mapping in silicon carbide 4H-SiC dry etching processes in chlorine plasma” [Wpływ materiału maskującego na jakość odwzorowania w procesie suchego trawienia węglika krzemu 4H-SiC w plazmie chlorowej] (2019) 95 (10), pp. 158-161. DOI: 10.15199/48.2019.10.36
- Krzeminski, J., Skarzynski, K., Wroblewski, G., Janczak, D., Dybowska-Sarapuk, L., Lepak, S., Pavlov, K., Sloma, M., Jakubowska, M., “Aerosol jet printing head for printed microscale electronics”, (2018) 10808, art. no. 108084V, DOI: 10.1117/12.2501496