Pulsed Laser Deposition

Oferujemy osadzanie cienkich warstw materiałów tlenkowych metodą ablacji wiązką laserową (Pulsed Laser Deposition). Posiadana instalacja umożliwia wytwarzanie pojedynczych warstw lub heterostruktur oraz prowadzenie pojedynczych procesów lub krótkich serii. Możliwe jest prowadzenie procesu w warunkach wysokiej próżni (UHV) lub w atmosferze procesowej tlenu lub azotu. Warunki procesowe:

charakterystyka lasera: długość fali 248 nm, częstotliwość do 50 Hz,
temperatura podłoża: od temperatury pokojowej do 1 000°C,
możliwość zastosowania do 8 różnych materiałów w jednym procesie,
możliwość ograniczenia ekspozycji wytworzonych warstw na działanie powietrza.

Słowa kluczowe: PLD, osadzanie cienkich warstw, powłoki, ablacja laserowa

kontakt: uslugi.cezamat@pw.edu.pl